Die Halbleiterindustrie ist eine enorme globale Industrie, die fortfährt, jedes Jahr zu wachsen, also bedeutet es, dass die Nachfrage nach Gasen von hohem Reinheitsgrad sich dementsprechend erhöht.
Eine zuverlässige Versorgung Gas zu haben von hohem Reinheitsgrad ist für Halbleiterherstellung, besonders in neuen Technologien wie intelligenten Telefonen und autonomem Fahrzeug wesentlich.
Der Prozess des Produzierens von integrierten Schaltungen ist sehr komplex und erfordert mehr als 30 verschiedene Gase in allen Stadien, das die Strecke benutzten Gasen von den eins von den weitverbreitetsten in jeder möglicher Industrie macht.
Gas ist ein wichtiger Teil Halbleiterherstellung, weil es die chemischen Reaktionen produzieren kann, die erfordert werden, um die elektrischen Eigenschaften von Halbleitern zu formen. Wegen seiner Komplexität, muss das Gas, das in jedem Stadium des Herstellungsverfahrens benutzt wird, genau und genau sein, den Halbleiter richtig zu konfigurieren.
Mit der ständigen Weiterentwicklung der Halbleiterindustrie, entwickeln sich die Gase, die im Prozess benutzt werden, auch. Einige der benutzten Kerngase schließen Stickstoff, Sauerstoff, Argon und Wasserstoff mit ein. Wir besprechen ihre Rollen im ausführlichen Herstellungsverfahren.
Stickstoff
An seiner Verfügbarkeit und an Untätigkeit, Stickstoff liegt das Kerngas, das in jedem Schritt des HalbleiterHerstellungsverfahrens benutzt wird, aber sein Hauptgebrauch ist im Bereinigungsstadium. Gegenwärtig wird Stickstoff benutzt, um jedes Kanal- und Rohrnetz zu spülen, um jeden möglichen Sauerstoff in den Maschinen und in den Werkzeugen zu entfernen, um sie vor anderen Gasen zu schützen, die möglicherweise den Prozess verseuchen.
Darüber hinaus werden die meisten Halbleiterfabriken mit Stickstoffgeneratoren auf dem Standort wegen des großen Gebrauches des Stickstoffes im ganzen Prozess ausgerüstet. Wichtiger, mit der Produktion von High-Techen Smartphones und von anderen Technologien, ist es zwingend, das gekostete Tief beim Versuchen zu halten, die hohe Nachfrage zu treffen.
Sie können sagen, dass Stickstoff Werkzeuge, Räume und Rohre weg von jeder möglichen Feuchtigkeit, chemische Schadstoffe und Partikel hält. Es ist ein wesentliches Gas, das während des Prozesses von Anfang an zum Ende benutzt wird, das kein Wunder ist, warum sie Generatoren auf Standort installieren.
Sauerstoff
Wie Sie wissen, ist Sauerstoff ein Oxydationsmittel, also ist es wesentlich, eine Absetzungsreaktion zu produzieren. Es wird verwendet, um Siliziumoxidschichten für verschiedene Elemente im Prozess, wie Diffusionsmasken zu wachsen.
Wenn Sauerstoff für Halbleiterherstellung benutzt wird, muss das Gas die Ultrahochreinheit sein, zum jeder möglicher Verunreinigung am Beeinflussen der Produktion und der Leistung des Gerätes zu verhindern.
Während des Ätzverfahrens wird Sauerstoff auch benutzt, um jeden zusätzlichen materiellen Abfall zu entfernen erzeugte. Er kann auch verwendet werden, um jedes mögliches Ätzungsmusterdauerhafte zu machen.
Schließlich hilft Sauerstoff auch, reagierende Gase durch Oxidationsreaktionen zu neutralisieren, die möglicherweise Produktqualität ändern. Deshalb wie Stickstoff, hilft Sauerstoff auch, zu garantieren, dass keine Verschmutzung auftritt.
Argon
Argon wird hauptsächlich für die Absetzung und das Ätzverfahren im ultravioletten Lithographielaser benutzt und wird benutzt, um das kleinste Muster auf dem Halbleiterchip zu machen.
Während der Herstellung der erforderlichen Siliziumscheibe, wird Argongas benutzt, um den Siliziumkristall zu schützen, der auf der Oblate vor jeder möglichen Reaktion mit Sauerstoff und Stickstoff während des Hochtemperaturwachstumsprozesses gebildet wird.
Weil Argon auch ein sehr Edelgas ist, wird es benutzt, um eine nicht reagierende Umwelt für Metallspritzenabsetzung zur Verfügung zu stellen. Manchmal ist die Reaktivität des Stickstoffes zu stark, die zu die Bildung von Metallnitriden führt.
Darüber hinaus wird flüssiges Argon mit Werkzeugen benutzt, um die kleinsten und zerbrechlichsten Chips zu säubern.
Wasserstoff
Der Gebrauch des Wasserstoffs in der Halbleiterherstellung erhöht möglicherweise passendes zu Stoßzeit. Besonders im Photolithographiestadium, wird Wasserstoff benutzt, um mit chemischem Zinn zu reagieren, um Zinnhydrid zu produzieren. Zinnhydrid wird damit, nicht auf teuren optischen Elementen anzusammeln angefordert.
Es wird für Epitaxial- Absetzung des Silikons und des Silikongermaniums im Absetzungsprozeß und auch für Vorbereiten der Oberfläche durch Vergütungsprozeß verwendet.
Wasserstoff wird benutzt, um eine neue Oxidschicht zu schaffen, um den vorhandenen Dünnfilm zu ändern. Dieser Prozess tritt in der Hochdruck- und Hochtemperaturumwelt auf, also bedeutet es, dass die Steuerung der Strömungsgeschwindigkeit, der Temperatur und des Drucks sehr wichtig ist.
Darüber hinaus wird Wasserstoff auch im lackierenden Stadium benutzt, um zu helfen, Aufspaltung zu steuern, weil das Gas, das in diesem Prozess benutzt wird, in hohem Grade giftig ist. So viele, die sie in einem Gerät gespeichert werden müssen, das Durchsickern verhindern kann.
Diborane ist auch eine Chemikalie, die im lackierenden Prozess benutzt wird, aber wegen der thermischen Instabilität, zerlegt es langsam, also ist Wasserstoff erforderlich zu helfen, sie zu stabilisieren.
Halbleiter im Alltagsleben
Halbleiter werden in allen Arten tägliche Ausrüstung, wie Computern, Smartphones, Fernsehen und auch in neuen Technologien, wie medizinischer Ausrüstung, Militärsystemen und vielen anderen Anwendungen benutzt.
Sie sind ein Teil unseres Alltagslebens und wir bemerken sie nicht, weil sie in den Geräten existieren, die wir jeden Tag verwenden. Ohne Halbleiter sind wir nicht in der Lage, viele Sachen zu tun. Mit der Entwicklung der Halbleitertechnik, werden sie zuverlässiger, intelligent und kompakt.
Von der Kommunikation sind Transport und Unterhaltung, diese nur ein kleines Teil, welcher Halbleiter für uns getan haben. Sie Willenskraftzukunfttechnologie und -innovation, uns ermöglichend, Sachen zu tun wir haben nie sich vorgestellt.