Firmennachrichten über Innovationen in Vakuum-Beschichtungs- und Oberflächentechnik
Zusammenfassung
Im Mittelpunkt des Kernthemas „Innovation in der Vakuumbeschichtungs- und Oberflächentechnik“ hat heute in Shenzhen die 7. Vacuum Technology Exchange Conference offiziell begonnen.
Geleitet vom Kernprinzip „Abbau technischer Barrieren und Förderung industrieller Synergie“ bietet diese Konferenz Austauschrunden, die sich auf drei Hauptthemen konzentrieren: Atomic Layer Deposition (ALD), Chemical Vapor Deposition (CVD) und DLC/Ta-C-basierte Kohlenstoffbeschichtungen.
Die Konferenz bringt internationale Experten aus Wissenschaft, Industrie und Forschungseinrichtungen sowie technische Führungskräfte führender Unternehmen zusammen und wird sich mit den neuesten Durchbrüchen in Schlüsseltechnologien, Wegen zur industriellen Umsetzung und den wichtigsten Herausforderungen der Branche befassen. Ziel ist es, eine integrierte Plattform für „technischen Austausch, Ressourcenanpassung und Leistungstransformation“ zu schaffen, um die Vakuumtechnologie zu befähigen, eine tiefe Integration und breite Anwendung in kritischen Sektoren wie Halbleitern, neuer Energie und fortschrittlichen Materialien zu erreichen.
1. ALD/CVD „Präzisionskontrolle“ löst das Rätsel
Die Auswahl von Ventilen für ALD/CVD-Systeme erfordert nicht nur die Erfüllung grundlegender Spezifikationen, sondern auch die Abstimmung auf die Prozessdetails. Ein Durchbruch von „akzeptabel zu Premium“ in der Vakuumbeschichtung und Oberflächentechnik hängt von der „Präzisionskontrolle im Mikrometerbereich“ in ALD/CVD-Prozessen ab — wobei die Reaktionsgeschwindigkeit der Ventile und die Stabilität des Spezialgassystems direkt die Gleichmäßigkeit, Reinheit und Ausbeute der Beschichtung bestimmen.
In Vakuumbeschichtungsprozessen ist die Leistung der Fluidsteuerungsausrüstung entscheidend. Unsere Produkte zeichnen sich durch Reaktionsgeschwindigkeit, Leckrate und Temperaturbeständigkeit aus. Geräte mit einem Ventilgehäuse aus Edelstahl 316L EP-Qualität mit PTFE-Dichtungen erreichen eine Leckrate von ≤1×10⁻¹² Pa·m³/s und erfüllen damit die Anforderungen des ALD-Prozesses. Unsere Multi-Orifice-Ventile, die für Hochtemperatur-ALD-Beschichtungsanwendungen entwickelt wurden, halten erhöhten Temperaturen stand und optimieren gleichzeitig die Spüleffizienz, um die Auswirkungen von Restvorläufern auf die Beschichtungsqualität zu minimieren.
Unsere Ventilkörper bestehen aus korrosionsbeständigen Ventilanordnungen, die über 25 % Chrom-Nickel-Molybdän-Legierung enthalten. Der CVD-Prozess gewährleistet einen kontinuierlichen, langfristigen Betrieb ohne Korrosion oder Leckage. In Bezug auf die Durchflussregelung hält das ineinandergreifende Mehrventil-Steuerungssystem die Durchflussabweichung innerhalb von ±0,2 %, was den branchenüblichen Präzisionsstandard von ±0,3 % deutlich übertrifft. Dies löst effektiv die Herausforderung der Branche, dass „Durchflussschwankungen zu Abweichungen der Beschichtungsdicke führen“.
Die „Reinheit, Stabilität und Rückverfolgbarkeit“ von Spezialgasleitungen dienen als unsichtbarer Schutz für Vakuumbeschichtungsprozesse.
Reinheit der Rohrleitungen
Die Reinheit der Innenwände der Rohrleitungen muss streng kontrolliert werden. Zu diesem Zweck haben wir ein umfassendes Reinheitsmanagementsystem eingerichtet, das „Reinigung, Schweißen, Spülen und Inspektion“ umfasst. Durch den Einsatz eines Verfahrens, das „Ultraschallreinigung + Hochreinheits-Stickstoffspülung + Passivierungsbehandlung“ kombiniert, erreicht der Ra-Wert der Innenwände der Rohrleitungen durchweg 0,35 μm.
Präzise Anpassung an die Druckstufe
Der Leitungsdruck variiert in verschiedenen Vakuumbeschichtungsszenarien erheblich (ALD liegt typischerweise zwischen 10⁻³ und 10⁻⁵ Pa, während CVD üblicherweise bei 0,1 bis 0,5 MPa arbeitet), was Verbindungsmethoden erfordert, die mit der Druckstufe kompatibel sind.
· Niederdruck (≤0,3 MPa): Doppelferrule-Verbindungen
· Hochdruck (≥0,5 MPa): Automatisches WIG-Schweißen
· Ultrahochvakuum (≤1e-4 Pa): Metallgedichtete Flansche
Druckdynamisches Gleichgewicht
Die gepulste Gaszufuhr im ALD-Prozess verursacht Druckschwankungen in der Rohrleitung. Wenn die Schwankungen ±0,02 MPa überschreiten, wird die Stabilität der Vorläuferkonzentration beeinträchtigt. Durch Anpassen des Upstream-Druckreglers haben wir die Einlassdruckschwankungen auf ±0,005 MPa kontrolliert. In Kombination mit der Echtzeit-Rückkopplungsregelung eines hochpräzisen Drucksensors mit einer Genauigkeit von ±0,1 % FS haben wir letztendlich Druckschwankungen in der Rohrleitung von ≤±0,003 MPa erreicht, wodurch eine konstante ALD-Pulsstrahlkonzentration gewährleistet wird.
Spezialgasausrüstung muss von „isoliertem Betrieb“ zu „tiefer Integration in den Prozess“ übergehen.
CVD-Prozesse erfordern typischerweise 2-4 Gase, die in festen Anteilen gemischt werden. Daher verwenden wir international führende hochpräzise Massenflussregler (MFCs) mit einer Messgenauigkeit von ±0,05 % FS, die eine außergewöhnliche Stabilität und Zuverlässigkeit bei der Fluidflussregelung gewährleisten. Ausgestattet mit unserem proprietären Mischalgorithmus überwachen und kompensieren diese Regler kontinuierlich die Auswirkungen von Gas- und Druckschwankungen auf die Flussparameter.
Die durch den CVD-Prozess erzeugten Abluftgase müssen die Emissionsstandards erfüllen. Wir verwenden ein integriertes Abluftbehandlungssystem.
Trockenadsorptionsstufe: Ausgestattet mit hochselektiven Spezialadsorbentien erreicht dieses mehrstufige Adsorptionssystem eine ultrahohe Adsorptionseffizienz von ≥99,9 %. Verbrennungsstufe: Für komplexe, schwer abbaubare organische Verbindungen wird eine Hochtemperatur-Pyrolyseumgebung geschaffen. In Kombination mit der Technologie zur Verbesserung der turbulenten Verbrennung wird eine tiefe Zersetzungsrate von ≥99,99 % erreicht, wodurch das Risiko organischer Schadstoffe vollständig beseitigt wird.
Integriertes System „Spezialgasschrank + Rohrleitungen + Ausrüstung“
Um Schnittstellenpunkte zu minimieren und Leckagerisiken zu reduzieren, bieten wir eine integrierte Lösung an. Vom Design des Spezialgasschranks (einschließlich Reinigung, Verteilung und Sicherheitskontrollen) bis hin zur Integration von Rohrleitungsschweiß- und Abluftbehandlungsanlagen wird der gesamte Prozess professionell von einem einzigen Team durchgeführt.
Nutzung des Verbands als Brücke zur Förderung der Industrietechnologie
Diese Konferenz zum Thema „Innovation in der Vakuumbeschichtungs- und Oberflächentechnik“ dient nicht nur als Plattform für den branchenweiten Technologietransfer, sondern veranschaulicht auch das Engagement von Wofei Technology, die Branchenverbindungen zu vertiefen und die „technologiegestützte Fertigung“ voranzutreiben.
In Zukunft werden wir weiterhin den Vacuum Technology Industry Association als Brücke nutzen und uns auf die Anforderungen an die Fluidsteuerung für Kernprozesse wie ALD/CVD konzentrieren. Unser Ziel ist es, die Umsetzung weiterer technologischer Innovationen voranzutreiben und die Vakuumbeschichtungs- und Oberflächentechnik in eine neue Ära höherer Präzision und erhöhter Sicherheit zu führen!
