CHINA Shenzhen Wofly Technology Co., Ltd. Unternehmensnachrichten

Mit der kontinuierlichen Entwicklung von neuen Energiefahrzeugen steigt auch die Nachfrage nach Anodenmaterialien für die Batterien von neuen Energiefahrzeugen.und Anodenmaterialien werden in Zukunft die wichtigste Entwicklungsrichtung des Marktes für Anodenmaterialien für Lithiumbatterien sein.Derzeit werden Lithiumbatterie-Anodematerialien hauptsächlich in den drei Hauptbereichen Lithium-Ionen-Batterien, Energiespeicherbatterien und Leistungsspeicherbatterien verwendet.   Laut Daten betrug Chinas Leistungs-Lithium-Ionen-Batterieproduktion im Jahr 2021 10,31 Milliarden, ein Anstieg von 81,3%.die künftige Marktnachfrage nach Leistungs-Lithium-Ionen-Batterien wird weiter steigenDie inländischen Unternehmen für Lithium-Ionen-Batterie-Anodenmaterial befinden sich derzeit in einem Zustand des raschen Wachstums der Produktionskapazität.Insbesondere die inländischen Anodenmaterialunternehmen, vertreten durch Zhongke Haijia, Zhongke Xingtu, Sugi Stocks und Betray, die ihre Investitionen in Ausrüstung und technologische Forschung und Entwicklung erhöhen,und die Ausweitung der Produktionskapazität bei gleichzeitiger Aufrechterhaltung des stabilen Wachstums der bestehenden Kapazitäten. In der Entwicklung von Elektrofahrzeugen hat die Nachfrage nach negativen Elektrodenmaterialien eine Hitzewelle auf dem Markt ausgelöst.Der Einsatz von Spezialgasen spielt eine wichtige Rolle, der einen revolutionären Durchbruch in der Industrie der Negativelektrodenmaterialien mit sich bringt.   Zunächst zeigt der Flüssigkeitsbett-Dampf-Abscheidungsreaktor FB-CVD seinen einzigartigen Charme.Es setzt auf spezielles Gassilane, um eine ausgezeichnete Leitfähigkeit und Stabilität in Negativelektrodenmaterialien zu injizieren, wodurch Negativelektrodematerialien nicht nur effizient Energie speichern, sondern auch eine ausgezeichnete Zyklusdauer haben.   Zweitens bietet die Nano-Beschichtung FB-SDNC mit Fluidisiertem Bettspray unbegrenzte Möglichkeiten für die Leistung von Anodenmaterialien.Durch die Nano-BeschichtungstechnologieDie Oberfläche des Negativelektrodenmaterials ist mit einer dünnen Folie bedeckt, die die Oberfläche und Reaktionsaktivität des Negativelektrodenmaterials erheblich erhöht.so dass sie Energie effizienter speichern und freisetzen kann.   Schließlich erlaubt die Pulver-Atomschicht-Ablagerungsanlage PALD dem Negativelektrodenmaterial, seine Leistung weiter zu sublimieren.Die Verwendung von speziellem Gas Stickstoff verleiht dem Negativelektrodematerial eine hohe Stabilität und hohe Temperaturbeständigkeit., so daß sie auch in schwierigen Arbeitsumgebungen eine hervorragende Energiespeicherkapazität aufweist. Als spezialisiertes Gasleitungsinstallationsunternehmen mit 13 Jahren Erfahrung verstehen wir die Bedeutung von Spezialgasen im Produktionsprozess von Negativelektrodenmaterialien.Im Laufe der Jahre, haben wir uns verpflichtet, eine Reihe repräsentativer Unternehmen von Negativelektrodenmaterialien, wie Betray, exzellente Dienstleistungen zu erbringen.Wir haben nicht nur eine reiche Erfahrung in der Kontrolle von Spezialgasen, aber auch maßgeschneiderte Spezialgaslösungen für unsere Kunden mit unserer starken Teamkraft und Expertise bieten, um eine sichere und zuverlässige Versorgung des Produktionsprozesses zu gewährleisten. Die Einrichtung von Spezialgasleitungen erfordert ein hohes fachliches und technisches Niveau, der aktuelle heimische Markt für Spezialgasleitungen, die Anzahl der Unternehmen,heftige KonkurrenzAuf diesem Markt hat sich Wofei aufgrund seiner eigenen technischen Stärke und seines guten Rufes einen starken Wettbewerbsvorteil erarbeitet.   Gleichzeitig ist die Errichtung eines speziellen Gaspipeline-Projekts ein komplexes Projekt, das nicht nur ein hohes Maß an technischen Fähigkeiten erfordert,aber auch eine gute Professionalität und berufliche Ethik haben mussWofei verfügt über langjährige Erfahrung in der Installation von speziellen Gaspipeline-Projekten.und hat starke Vorteile in Technologie und Management, und wurde von vielen Kunden anerkannt.

Klassifizierung von Industriegasen Industriegase beziehen sich auf Produkte, die bei Raumtemperatur und -druck gasförmig sind und die Grundrohstoffe der modernen Industrie sind, die in traditionellen und aufstrebenden Industrien weit verbreitet sind.Nach den verschiedenen Zubereitungsmethoden und Anwendungsbereichen, Industriegase können in Schüttgase und Spezialgase unterteilt werden: Industriezweige der Industriegasindustrie Die vorgelagerten Rohstoffe der Industriegasindustrie sind hauptsächlich Luft, Industrieabfallgas, chemische Grundrohstoffe usw.Die vorgelagerten Industriezweige sind hauptsächlich Lieferanten von, Reinigungsgeräte, Lagerbehälter und andere Lagerbehälter, Tankwagen und andere Transportgeräte), Stromversorger und Lieferanten von chemischen Grundrohstoffen. Die nachgelagerten Industriezweige der Industriegasindustrie sind hauptsächlich elektronische Halbleiter, Biomedizin, neue Energie, Metallurgie, chemische Industrie, Maschinen, Elektrizität, Baustoffe,BeleuchtungIn der Industrie, in der Nahrungsmittelindustrie, in der Landwirtschaft und in anderen Industriezweigen mit einer breiten Palette von nachgelagerten Anwendungen haben die wirtschaftlichen Schwankungen einer einzelnen nachgelagerten Industrie weniger Auswirkungen auf die Industriegasindustrie.Unter ihnen, der Endverbrauchermarkt für gängige Industriegase konzentriert sich hauptsächlich in traditionellen Industriezweigen wie der Metallurgie und der chemischen Industrie,Während der Endverbrauchermarkt für Spezialgase hauptsächlich in den Bereichen elektronische Halbleiter besteht, ist die, Biomedizin und neue Energie.

Eine halbautomatische Schaltvorrichtung wird auf die Dekompressionsgasversorgung von doppelseitigen Hochdruckgasflaschen angewendet, um eine kontinuierliche Gasversorgung mit Blasfunktion durch automatisches Schalten zu erreichen.mit einer Breite von mehr als 20 mm,Der automatische Schalter ist eine offene Scheibe für die Steuerung der Abgabe von gängigen, inerten und Massengasen.Alle zentralisierten Gasversorgungssysteme eignen sich hervorragend für den Einsatz von automatischen Schaltanlagen. Eine ununterbrochene Gasversorgung ist in einer Reihe kritischer Fertigungs- und Laborprozesse unerlässlich.Produktivitätsverlust und sogar Ausfallzeiten für die gesamte AnlageHalbautomatische Schaltsysteme können kostspielige Ausfallzeiten minimieren, indem sie von einem Primär- oder Ersatzzylinder ohne Unterbrechung der Gasversorgung wechseln.Sobald der Primärzylinder oder die Zylinderbank voll ist, schaltet das System automatisch auf den Ersatzzylinder oder die Zylinderbank für einen kontinuierlichen Gasfluss um.Der Benutzer ersetzt dann die Luftflasche durch eine neue, während das Gas noch von der Reserve Seite fließtEin Bidirektionsventil wird verwendet, um bei Zylinderwechseln die primäre oder die Reserve Seite anzuzeigen. Vorteile der halbautomatischen Schaltvorrichtung 1. Gas kann ohne Unterbrechung geliefert werden Das automatische Schalten der Versorgungsleitung ermöglicht eine kontinuierliche Gasversorgung über einen langen Zeitraum und kann nach dem Schalten der Leitung automatisch erfolgen.   2.Kompakte Raumgestaltung Da verschiedene Arten von Geräten und Gasflaschen zusammengebaut werden, ist die Struktur kompakter und die Nutzung des Umweltraums effizienter.   3.Auf verschiedene Verwendungsmethoden reagieren Da die Gasanlagen und die Bedienungsanlagen unabhängig voneinander sind, gibt es einen hohen Ausbau auf einen Parallelschalt- und einen unabhängigen Bedienungsanlagentyp.so ist es möglich, mit verschiedenen Verwendungsmethoden umzugehen.   4.Schlankes und funktionelles Design Das halbautomatische Schaltgerät hat die Flüssiggasflaschen in geordneter Weise nebeneinander, außerdem ist das Paneldesign schön und leicht zu sehen und zu bedienen. Im Folgenden wird die Installationsmethode der halbautomatischen Zylinderschaltvorrichtung beschrieben. eine halbautomatische Zylinderschaltvorrichtung an der Gasflasche oder an der Rohrleitung montiert ist. 1. Stellen Sie sicher, dass die verwendete Gasflasche oder -leitung das in der Produktspezifikation angegebene Gas ist.   2. Stellen Sie sicher, dass auf der Abdichtungsfläche des Ventil-Ausgangs des Zylinders oder der zu verwendenden Rohrleitung kein Schmutz oder Schmutz vorhanden ist, und entfernen Sie diesen, falls vorhanden.   3Wenn Sie eine Gasflaschendichtung installieren müssen, stellen Sie sicher, dass die Dichtung versiegelt werden kann, bevor Sie sie mit einem Werkzeug auf die Gasflasche oder die Rohrleitung montieren.   Halbautomatische Zylinderschaltvorrichtung zur Gasdruckbereinigung 1. Stellen Sie sicher, dass sich der oberste verstellbare Druckreduktionsschlüssel in einem nicht angespannten Zustand befindet. Wenn sich der Regulierungsschlüssel in einem angespannten Zustand befindet, stellen Sie den Schlüssel in einen lockeren Zustand ein.Überprüfen Sie, ob die Schließventile an der linken und rechten Zylinderbank und an die halbautomatische Zylinderschaltanlage "AGC" angeschlossene Rohrleitung nicht verschärft sind.Wenn der Schlüssel los ist, stellen Sie ihn in die verriegelte Position ein.   2. Stehen Sie nicht vor dem halbautomatischen Zylinderschaltgerät und öffnen Sie die Ventile der Zylinder und der Rohrleitung vorsichtig langsam.   3. Zylinderventil und Schließventil auf der linken Seite.   Es darf kein Luftleckage aus dem Lufteinlassanschluss geben. Drei, halbautomatische Zylinderschaltvorrichtung Gasversorgungsanpassung 1. Der Ausgangsdruck wird angepasst, wenn die linke Seite der Zylindergruppe der Hauptgaszufuhr und die rechte Seite der Zylindergruppe der Ersatzzylinder im Zustand der Gaszufuhr bestätigt werden.um sicherzustellen, dass die Schaltvorrichtung auf der rechten Seite des Druckreduktors C die Schaltgriffe auf der Gasversorgungsseite, die Vorrichtung am oberen Ende des verstellbaren Druckreduktors A einstellen, den Druckschlüssel langsam in Uhrzeigersinn drehen,zur Anpassung des Auslassdrucks an den Verwendungsdruck des Produkts. zu diesem Zeitpunkt, um zu bestätigen, dass das Sicherheitsventil und Druckreduktor-Hülle und Ausgang Verbindung Maschine und andere Teile der Luftleckage.   2Wenn das Gas auf der einen Seite des Zylinderversorgungssystems ausgeht, kann es automatisch in die entgegengesetzte Richtung wechseln, um Gas zu liefern.   3. Wenn der Hauptgasbehälter knapp ausläuft (> 1 MPa) und er ausgetauscht werden muss,Drehen Sie langsam den Schaltschlüssel des Druckreduzers auf der rechten Seite des Schaltgeräts 180° im Uhrzeigersinn, so dass sich der Griff auf der Gasversorgungsseite befindet.Nach der Bestätigung, dass die Zylindergruppe im Standby-Zustand das System normal mit Gas versorgt, können Sie die Zylindergruppe mit der Hauptversorgung abschalten und die Zylinder ersetzen.   4. Nachdem die Zylindergruppe der Hauptgasversorgung ausgetauscht wurde, öffnen Sie die Ventile der Gasflaschen und Rohrleitungen,und drehen Sie den Schaltschlüssel des rechten Druckreduktors der Schaltvorrichtung langsam um 180° gegen den Uhrzeigersinn., so dass sich der Schaltgriff des rechten Druckreduktors der Schaltvorrichtung auf der Seite der Hauptgasversorgung befindet,und die Hauptgasversorgungszylindergruppe kann Gas an das System liefern.   Wenn es um Gassteuerungssysteme geht, wird jede gute Lösung durch intensive Kommunikation angepasst.Gaspark entwirft spezielle Konfigurationen entsprechend dem Gasbedarf der gasverbrauchenden Einheiten und den GasmerkmalenMit 13 Jahren Erfahrung in der Branche führt Gaspark Sie in die verschiedenen Systemkonfigurationen und Komponenten einer speziellen Gasanlage ein.Das Verständnis der Nuancen der verschiedenen Systemkonfigurationen und -komponenten kann den Gasnutzern helfen, die Sicherheit zu verbessern, Ressourcen zu sparen, die Betriebszeit zu erhöhen und letztendlich die Kosten zu senken.

(1) Industrie: Weltmarktgröße für Industriegase von 175,5 Milliarden US-Dollar im Jahr 2025, 2020-2025 CAGR5,4%, sowohl Stabilität als auch Wachstum Stabilität: 1 Der chinesische Markt von 100 Mrd. USD, der chinesische Markt für Industriegase von 232,5 Mrd. Yuan (35,8 Mrd. USD) im Jahr 2025, CAGR 8,6%; 2 der nachgelagerten Abteilung eine breite Palette von Branchen und Projekten mit Einzigartigkeit und Exklusivität abdecken. Unterzeichnung von langfristigen Verträgen, die durch makro-unerwünschte Faktoren (Epidemie) beeinflusst werden; 3 Graben tief, Lufttrennungsgeräte Lokalisierung ist der Schlüssel zur künftigen Kostensenkung, Erhöhung der Verhandlungsmacht. Wachstum: 1 die Anwendung von Gas in Schüttgut, die weiter ausgebaut werden soll: doppelten Kohlenstoffgehalt, die traditionelle Industrie (Kohle- und Chemieindustrie) für die Verbesserung der Prozesse, die Verringerung der CO2-Emissionen,von der Nachfrage nach Sauerstoff angetriebenDie Zukunft der Wasserstoffwirtschaft als saubere Energie Verbesserung des Geschäftsmodells für Schüttgas: Selbstgebaute Gasanlagen wandten sich allmählich zur Auslagerung der Versorgungsgeschäfte um; die Anbieter von Gasprodukten erweitern sich weiter im Vorfeld und werden zu Anbietern von Ausrüstungen;Hersteller von Lufttrennungsgeräten, die sich in Gaslieferanten verwandelt haben, expandieren nach oben, um sich zu Anbietern von Geräten zu entwickelnDie Hersteller von Lufttrennungsgeräten verwandeln sich in nachgelagerte Anbieter von Gasprodukten. Da Gas in einer Vielzahl von Anwendungen verwendet wird, gibt es ein Gasträgerprodukt, das den Druck des Gases reduziert, ein Druckreduktor genannt, aber nicht nur ein Druckreduktor,es gibt eine Vielzahl anderer Produkte. Shenzhen Wofly Technology Co., Ltd. ist auch wegen dieser Verwendung von Gas, sie entwickelten ihre eigenen gehören zu einem Druckregler Produkte, aber auch registriert gehören zu ihrer eigenen Marke AFKLOK,Produkte für Druckreduktoren, in einer Vielzahl von Gasen auf die Verwendung einiger der Probleme, für diese Probleme haben wir eine spezielle Gas Schränke, spezielle Gasregale, VMP und so weiter entwickelt diese Serie von Produkten, dieses Produkt!Einmal aus einem großen Teil für den Einsatz von Gas, die Partei, um die Gefahr zu vermeiden, Platz und Arbeitskosten zu sparen, sowie für die Anwendbarkeit verschiedener Gase auf eine gute Garantie. Shenzhen Wofly Technology Co., Ltd. ist spezialisiert auf die Lösung des Problems der Gasversorgung und die Vermeidung seiner Gefahren.

Da der Halbleitermarkt wächst, werden die Standards für Reinheit und Genauigkeit strenger.Einer der entscheidenden Faktoren für die Qualität der Halbleiterherstellung sind die im Prozess verwendeten GaseDiese Gase spielen im Herstellungsprozess viele Rollen, darunter:   Präzisionssteuerung des Prozesses   Vermeidung von Kontaminationen   Verbesserung der metallurgischen Eigenschaften   Um diese Aufgaben wirksam zu erfüllen, muss das Gasversorgungs- und -verteilungssystem effizient sein.Die Konstruktion der in der Halbleiterherstellung verwendeten Gashandlungssysteme muss durch robuste Komponenten und maßgeschneiderte Baugruppen unterstützt werden, um eine zuverlässige und qualitativ hochwertige Produktion von Halbleitern zu gewährleisten. Gase zur Herstellung von Halbleitern Der Prozess der Herstellung von Halbleitern erfordert die Verwendung verschiedener Gase in verschiedenen Phasen des Prozesses.   Während übliche Gase wie Stickstoff, Wasserstoff, Argon und Helium in ihrer reinen Form verwendet werden können, können bestimmte Verfahren spezielle Gemische erfordern.Halogenide und Kohlenwasserstoffe gehören zu den in der Halbleiterherstellung verwendeten SpezialgasenViele dieser Gase können gefährlich oder hochreaktiv sein, was Herausforderungen bei der Auswahl und Konstruktion von Komponenten für Gassysteme mit sich bringt.   Hier sind einige Beispiele: Wasserstoff und Helium können aufgrund ihrer geringen Atomgröße und ihres geringen Gewichts leicht aus Rohrleitungen und Einbausystemen austreten.   Silane sind sehr brennbar und können in der Luft spontan verbrennen (autoignitieren).   Stickstoffdifluorid, das bei der Ablagerung, beim Ätzen und bei der Kammerreinigung verwendet wird, wird, wenn es in die Umwelt gelangt, zu einem starken Treibhausgas.   Wasserstofffluorid (Gas für die Ätzung) ist sehr ätzend für Metallleitungen.   Trimethylgallium und Ammoniak können schwierig zu handhaben sein - kleine Schwankungen bei Temperatur und Druck können den Ablagerungsprozess beeinträchtigen.   Die Kontrolle der Prozessbedingungen zur Minimierung der negativen Auswirkungen dieser Gase muss bei der Systemkonstruktion oberste Priorität haben.Es ist ebenso wichtig, die hochwertigsten Komponenten wie AFK-Membranventile während des Herstellungsprozesses zu verwenden.   Herausforderungen bei der Systemgestaltung   Halbleitergase sind in den meisten Fällen von hoher Reinheit und bieten inerte Bedingungen oder verstärken Reaktionen in verschiedenen Phasen des Herstellungsprozesses, wie z. B. Ätz- und Ablagerungsgase.Die Ausbreitung oder Kontamination solcher Gase kann negative Auswirkungen habenDaher it is critical for the system components used to be hermetically sealed and corrosion resistant as well as have a smooth surface finish (electrolytic polishing) to ensure that there is no possibility of contamination and that an extremely high level of cleanliness can be maintained. Außerdem können einige dieser Gase erhitzt oder gekühlt werden, um die gewünschten Prozessbedingungen zu erreichen.die für die effiziente Leistung des Endprodukts entscheidend ist.   Von der Quelle bis zum Einsatzpunkt unterstützt die breite Palette von AFK-Komponenten die ultra-hohe Reinheit, Temperatur,Druck- und Durchflussregelung in Halbleiterreinräumen und Vakuumkammern.   Entworfene Systeme mit Qualitätskomponenten in Halbleiterfabriken   Die Rolle von Qualitätskomponenten und Designoptimierung ist für die präzise Kontrolle und sichere Herstellung von Halbleitern von entscheidender Bedeutung.Die verwendeten Bauteile müssen robust und undicht sein, um den unterschiedlichen Prozessbedingungen in den verschiedenen Produktionsstufen gerecht zu werdenDie hochwertigen Ventile, Armaturen, Regler, Rohrleitungen und Dichtungsstangen von AFK zeichnen sich durch folgende Merkmale aus:   Ultra-hohe Reinheit   Dichtungen ohne Leckage   Temperaturgesteuerte Isolierung   Druckregelung   Korrosionsbeständigkeit   Elektrolytische Polierung

Die verschiedenen Chemikalien und Gase, die in der Halbleiterherstellung verwendet werden, erfordern robuste Flüssigkeitssysteme für eine ununterbrochene Versorgung in jeder Produktionsphase.Diese Flüssigkeitssysteme müssen in der Lage sein, die extremen Prozessbedingungen zu überstehen, die für die Halbleiterherstellung erforderlich sind, und gleichzeitig eine saubereDaher ist die Auswahl der Komponenten des Fluidsystems im Präzisions-Halbleiterherstellungsprozess von entscheidender Bedeutung. Die Auswahl hochwertiger Komponenten für Flüssigkeitssysteme ist gleichbedeutend mit einer erhöhten Produktionseffizienz und einer Verringerung der Ausfallzeiten der Systeme.Wir werden die entscheidende Rolle der Komponenten von Flüssigkeitssystemen und die Bedeutung ihrer Zuverlässigkeit diskutieren.   Bedeutung von Komponenten für Flüssigkeitssysteme in der Halbleiterherstellung   Fluidsystemkomponenten in der Halbleiterherstellung umfassen verschiedene chemische Misch-, Transport- und Steuerungssysteme für den sicheren Transport chemischer Flüssigkeiten in einer kontrollierten Umgebung.Ein ideales Fluidsystem hat:   ️ Einheitliche chemische Vermischung   “Verunreinigungskontrolle   “Temperatur- und Druckregelung   “Ununterbrochene Versorgung mit Chemikalien   Nur Komponenten höchster Qualität können in einem Halbleiterfluidsystem solche idealen Bedingungen bieten. Genauigkeit: Komponenten wie Ventile, Regulatoren und Pumpen arbeiten zusammen, um sicherzustellen, dass der richtige Anteil der Chemikalie in die Produktionszelle geliefert wird.Genaue Eingänge beseitigen das Risiko von Strömungsunterschieden, wodurch die Qualität des Endprodukts verbessert wird.   Kompatibilität und Sauberkeit: Komponenten des Flüssigkeitssystems mit einer Materialzusammensetzung, die mit Prozessflüssigkeiten kompatibel ist, verringern das Kontaminationsrisiko.die undichte Installation dieser Komponenten des Flüssigkeitssystems verringert die Partikelbelastung, die eine saubere und kontrollierte Produktionsumgebung für bessere Erträge bieten.   Sicherheit: Gase und Chemikalien, die bei der Herstellung von Halbleitern verwendet werden, können für die menschliche Gesundheit schädlich sein.Flüssigkeitssystemkomponenten, die Lecks und Verschüttungen verhindern sollen, können diese Flüssigkeiten sicher und kontrolliert an die Produktionsanlagen bringen..   Effizienz: Die undichte Konstruktion und die präzise Steuerung hochwertiger Komponenten des Flüssigkeitssystems minimieren Betriebsausfallzeiten und häufige Wartungsbedürfnisse und fördern eine reibungsloseeffiziente Fertigung zur Erreichung der Produktionsziele.   Qualitätsgefertigte Fluidsystemkomponentenlösungen   Die Komponenten von Flüssigkeitssystemen erfordern hochwertige Installationen, um den Herausforderungen der Halbleiterherstellung gerecht zu werden.   Ventile: Hochleistungsventile wie Zwerchfell-, Bälg- oder Nadelventile regeln den Flüssigkeitsfluss in Produktionsanlagen ideal.hochwertige Ventile bieten die zur Verbesserung der Effizienz der Produktions- und Handhabungsprozesse für die kritische Halbleiterherstellung erforderliche Präzision und Steuerung.   Ausrüstung: Hochreine Ausrüstung für Rohr- und Schlauchsysteme und andere kritische Komponenten sorgen für versiegelte Verbindungen, um die Sicherheit und Reinheit der Komponenten des Flüssigkeitssystems zu erhöhen.   Schläuche: Für Präzisionsfertigungsanforderungen helfen isolierte Schläuche beim thermischen Management, damit die Prozessbedingungen im Produktionsraum optimal aufrechterhalten werden können.Dies ist wichtig, da die geringste Temperaturschwankung die Chips beschädigen und zu Produktionsverschwendung führen kann.   Flexible Schläuche: Wenn es die Bedingungen erlauben, können flexible Schläuche verwendet werden, um die Anzahl der Armaturen in einer Fluidsystemanlage zu reduzieren.Weniger Armaturen bedeuten weniger Risiko für Lecks und Schäden durch Vibrationen und Bewegung.   Regler: Regler kontrollieren den Druck in jeder Phase des Halbleiterherstellungsprozesses effektiv.hochwertige Erträge, wobei die Verschwendung von Flüssigkeitschemikalien und Spezialmaterialien vermieden wird.   Filter: Ein einzelnes Teilchen kann die Leistung des Halbleiters beeinflussen.   Die Effizienz der Fluidsysteme in der Halbleiterherstellung kann mit der breiten Palette von hochwertigen Ventilen, Armaturen, Reglern, Schläuchen und Filtern von AFK-LOK erreicht werden.

Gase zu verwenden kann gefährlich sein. Gaslecks oder Gasverschmutzung sind ernste Ereignisse, die führen können, um abzufeuern, Explosion, Personenschaden oder sogar Tod. Alle diese Ergebnisse gefährden die Sicherheit Angestellten von vor Ort und von Risiko, die wertvolle Ausrüstung und Eigentum schädigt oder zerstört. Zusätzlich können Erdgasfragen eine Organisation anfällig verlassen für Haftung und regelnde Geldstrafen. Unfälle können auftreten wegen der Betreiber, welche die falschen Zylinder trennen oder vergessen, Zylinder zu trennen und Gaslecks ignorieren. Jedoch mit der rechten Ausrüstung, können diese Fehler herabgesetzt werden, um Betreiber zu schützen und Sicherheit beizubehalten. Gas-Sicherheitsnormen in der Halbleiter-Herstellung Halbleiterherstellung ist eine der Industrien, die auf das Gas sich konzentrieren müssen, das Sicherheit behandelt. Halbleiterfabriken verwenden eine Vielzahl von Gasen in ihren Produktionsverfahren und machen sie zwingend, Arbeitskraftsicherheit im Tagesgeschäft sicherzustellen. Unabhängig davon das Stadium der Halbleiterversorgungskette, ist Wachsamkeit wesentlich!   WOFLY empfiehlt die folgenden Sicherheitsanweisungen, wenn Gase in der Halbleiterherstellung verwendet werden:   Identifizieren Sie Auspuffgefahren und leiten Sie passende Belichtungseinschätzungen. - Identifizieren Sie und werten Sie alle möglichen Belichtungsszenario aus (z.B., Start, Operation, Wartung, Reinigung, Not-). - Wiederholen Sie die Endenseiten der WOFLY-Broschüre, die zulässige Expositionsgrenzen für verschiedene Substanzen enthält.   - Stellen Sie richtige Belüftung zur Verfügung, um zerstreute GasKonzentrationsniveaus zu verringern.   - Stellen Sie persönliche Schutzausrüstung (EVP) dementsprechend zur Verfügung, um Belastung durch Abgase zu verhindern.   - Verwenden Sie Atemschutz bei Bedarf, um Belichtung weiter herabzusetzen und Angestellte zu schützen.   Die rechte Ausrüstung für Ihre Anlage zu wählen ist auch zum Verhindern der gefährlichen Gasbelichtung kritisch. Die rechten Werkzeuge verhindern nicht nur gefährliche Vorfälle, aber verbessern auch Operationen und Leistungsfähigkeit. Stellen Sie Betreibersicherheit mit der rechten Ausrüstung sicher Die Sicherheit einer tollen Oblate hängt von seiner Ausrüstung ab und die rechten Werkzeuge zu haben ist wesentlich, ein sicheres instandzuhalten, zuverlässig und leistungsfähige process.GAS, die Kästen überwachen, sind eins der wichtigsten Geräte für das Verhindern von unbeabsichtigten Gaslecks. Jedoch ist es wichtig, die ideale Version zu wählen, die dauerhaft und geprüft ist, in der komplexen und gefährlichen Umwelt zu arbeiten. GAS-Monitor-Kastensystem WOFLYS versieht Steuerung und Überwachung des Gasdrucks, der Gaskonzentration, der Echtzeitüberwachung und der Störungswarnungen für bis 16 Kanäle von simultanen Daten, wenn die verschiedenen Hardware-Konfigurationen auf den Daten basiert sind, von den verschiedenen Messpunkten, um Sicherheit zu erhöhen und den sicheren Betrieb von Gaskabinetten und Gas-unter Verwendung der Ausrüstung sicherzustellen. Der 5Berwachungskanal kann entsprechend dem Bedarf des Benutzers besonders angefertigt werden.   Fertigen Sie die 5Berwachungskanalattribute entsprechend dem Bedarf des Benutzers, in der Hauptschnittstelle, Sie kann den Überwachungswert jedes Kanals sehen besonders an, und die entsprechende Warnungssituation, wenn es eine Warnung gibt, die entsprechende Warnungslampe zeigt Rotes an und piept, schützt Gastechniker vor gefährlichen Produktionsmaterialien und schützt die Integrität von Prozessgasen und von in Verbindung stehender Ausrüstung. Dieses erhöht Spezialitätengasoperationen.   Dieser Überwachungskasten wird für alle gefährliche Gasgeräte- und Spezialitätengasversorgungsausrüstung empfohlen. Es ist eine Standard-, preiswerte Wahl für Gebrauch mit allen WOFLY-GCGR Gaskabinetten, die entworfen sind, um gefährliche Gase sicher zu enthalten. Diese Gaskabinette sind in der Halbleiterindustrie für einige Jahre weitverbreitet gewesen und bekannt für ihre Qualität, Zuverlässigkeit, Leistung und überlegene Sicherheit. Wählen eines nachgewiesenen Partners für alle Ihre Ultrahochreinheitsanwendungen Die rechten Werkzeuge und die Ausrüstung sind kritisch, aber Haben des rechten Partners kann Organisationen helfen, ihre Operationen zum folgenden Niveau zu nehmen. Mit Vollservice-Gaslieferungslösungen, die Entwurf, Herstellung, Prüfung, Installation und Berufsaußendienst umfassen, WOFLY…

Der Ursprung von Gasdruckreglern kann zurück zu der Mitte des 19. Jahrhunderts mit der Entwicklung von Geräten verfolgt werden, um Gasfluß und -druck in den verschiedenen Anwendungen zu steuern und zu regulieren. Die frühen Gasdruckregler wurden hauptsächlich in Gassystemen benutzt, die während dieser Zeit überwiegend waren.   Einer der bemerkenswerten Pioniere in der Entwicklung von Gasdruckreglern war Robert Bunsen, ein deutscher Chemiker und Erfinder. In den 1850s erfand Bunsen den Bunsenbrenner, einen weitverbreiteten Gasbrenner in den Labors. Der Bunsenbrenner enthielt einen rudimentären Druckreglermechanismus, um den Gasfluß zu steuern und eine stabile Flamme instandzuhalten. Im Laufe der Zeit als Gasnutzung, die in verschiedene Industrien und in Anwendungen erweitert wurde, entstand der Bedarf an der moderneren und genaueren Gasdruckregulation. Dieses führte zu die Entwicklung von hoch entwickelteren Gasdruckreglern mit verbesserten Kontrollmechanismen.   Die modernen Gasdruckregler, die wir heute sehen, haben durch Förderungen in der Materialien und den Produktionstechniken der Technik, entwickelt. Sie enthalten Eigenschaften wie Membran oder Kolben-ansässige Kontrollmechanismen, Druck-Sensoren und Sicherheitseigenschaften, um die verschiedenen Bedingungen von verschiedenen Industrien und von Anwendungen zu erfüllen.   Heute werden Gasdruckregler durch einige Hersteller weltweit produziert und spezialisieren sich auf verschiedene Arten und Größen, um spezifischen Bedarf anzusprechen. Diese Regler machen Prozesse der rigorosen Prüfung und der Bescheinigung durch, um ihre Leistung, Zuverlässigkeit und Befolgung der Sicherheitsnormen sicherzustellen.   Gesamt-, der Ursprung und die Entwicklung von Gasdruckreglern der kann die Erhöhung Nachfrage nach kontrolliertem Gasfluß und Druck in den verschiedenen Industrien zugeschrieben werden und von den grundlegenden Mechanismen zu hoch entwickelten Geräten entwickeln, die wir auf heutigen Tag bauen.

Heutzutage mehr und mehr müssen Industrien Ultrahochreinheitsgase benutzen, und viele Firmen fingen an zu erforschen und die Ventile herzustellen, die benutzt werden, um zu regulieren Gase von hohem Reinheitsgrad, so gibt es ein Druckregelventil. Die Materialien, die in diesem Regelventil benutzt werden, sind von der hohen Qualität, einschließlich die Membraninstallationen, die von Hastelloy hergestellt werden und den gesamten Ventilkörper, der vom Edelstahl 316L gemacht wird. Die ununterbrochene Prüfung hat einen Druckregler mit Videorekorder-Installationen für feste versiegelnde Leistung, genaue Druckregelung, genaue Steuerung des Datenflusses, Ultrahochreinheitsgebote, Korrosionsbeständigkeit, Zuverlässigkeit und Stabilität ergeben. Heutzutage ist der Einsatzbereich von Ultra-hochreinheitsdruckreglern auch ziemlich breit, und seine Anwendungsmärkte sind wie folgt Halbleiterindustrie: Die Halbleiterindustrie hat sehr strenge Anforderungen für Ultrahochreinheitsgase, und Ultrahochreinheitsdruckregler spielen eine Schlüsselrolle im HalbleiterHerstellungsverfahren. Sie werden benutzt, um den Druck Gasen zu steuern und zu regulieren von den von hohem Reinheitsgrad (wie Stickstoff, Wasserstoff, Argon, etc.) benutzt in der Halbleiterherstellung, um stabile Prozessbedingungen und optimale Standard-Qualität sicherzustellen.   Foto-voltaische Industrie: In der photo-voltaischen (Solar) Industrie werden Ultrahochreinheitsdruckregler benutzt, um den Druck von den Gasen zu steuern und zu regulieren, die im Herstellungsverfahren benutzt werden. Zum Beispiel in der Fertigung von Solarzellen, in denen Gase benutzt werden, um Oberflächen zu säubern und zu behandeln, garantieren UHP-Druckregler, dass eine konstante Versorgung Gase sowie richtige Druckregelung zur Verfügung gestellt wird. Pharmazeutische Produkte und Biowissenschaften: Die Nachfrage nach Ultrahochreinheitsgasen ist auch in den Sektoren der pharmazeutischer und Biowissenschaften hoch. UHP-Druckregler werden in den pharmazeutischen Prozessen benutzt, um den Druck von Gasen zu steuern und zu regulieren, die Sicherheit und die Stabilität des pharmazeutischen Prozesses sicherzustellen. Darüber hinaus werden sie in der Laborausstattung und für Forschungszwecke benutzt.   Labor und wissenschaftliche Forschung: UHP-Druckregler sind in den Labors und in der wissenschaftlichen Forschung weitverbreitet, den Druck von Gasen zu steuern und zu regulieren. Ob er in einem Chemielabor, in einer Physikforschung oder in einer Materialwissenschaft ist, sind UHP-Druckregler ein Schlüsselgerät, wenn sie die Genauigkeit sicherstellen und Zuverlässigkeit von experimentellen und Forschungsprozessen.   Druckregler des ultra hohen Reinheitsgrades werden in der Halbleiterindustrie in einem signifikanten Anteil der vielen Anwendungsmärkte benutzt. Da das HalbleiterHerstellungsverfahren sehr strenge Anforderungen für Gase des hohen Reinheitsgrades hat, spielen Ultrahochreinheitsdruckregler eine wesentliche Rolle in der Halbleiterindustrie. Im HalbleiterHerstellungsverfahren werden Ultra-hochreinheitsdruckregler benutzt, um den Druck von Gasen von hohem Reinheitsgrad (z.B., Stickstoff, Wasserstoff, Argon, etc.) zu steuern und zu regulieren stabile Prozessbedingungen und optimale Standard-Qualität sicherzustellen. Es gibt einige Gründe, warum Ultrahochreinheitsdruckregler den größten Teil der Halbleiterindustrie bilden: Hoher Reinheitsgrad-Gas-Anforderungen: Das HalbleiterHerstellungsverfahren erfordert extrem hohen Reinheitsgrad der benutzten Gase. Kleine Verunreinigungen oder Schadstoffe können eine ernste Auswirkung auf die Leistung und Zuverlässigkeit von Halbleiterbauelementen haben. Ultrahochreinheitsdruckregler liefern eine Gasversorgung des hohen Reinheitsgrades und garantieren, dass die Reinheit des Gases nicht durch Verschmutzung oder Verunreinigungen beeinflußt wird.   Prozessstabilitäts-und Übereinstimmungs-Anforderungen: Halbleiterherstellung ist ein in hohem Grade genauer und stabiler Prozess, in dem genaue Steuerung des Gasdrucks kritisch ist. Ultrahoch-Reinheitsdruckregler liefern stabilen Druckertrag und genaue Anpassung des Gasdrucks, Übereinstimmung und Steuerung von Halbleiterprozeßparametern sicherzustellen.   Schnelle Antwort und in hohem Grade genaue Steuerung: Bestimmte Schritte im HalbleiterHerstellungsverfahren erfordern schnelle Gasdruckanpassungen in Kürze, beim gleichzeitig Erfordern der in hohem Grade genauen Steuerung. Ultrahoch-Reinheitsdruckregler erfüllen diese speziellen Bedingungen mit schneller Warte- und Hochpräzisionssteuerung.   Zuverlässigkeit und Sicherheit: Die Halbleiterindustrie verlangt die höchsten Stände der Zuverlässigkeit und der Sicherheit von der Ausrüstung und von den Systemen. Ultrahoch-Reinheitsdruckregler werden gewöhnlich mit hochwertigen Materialien und modernen Herstellungsverfahren hergestellt und stellen ausgezeichnete Zuverlässigkeit und Sicherheit zur Verfügung, um die zwingenden Bedingungen der Halbleiterindustrie zu erfüllen.   Zusammenfassend sind Ultrahochreinheitsdruckregler in der Halbleiterindustrie, die Nachfrage nach Gasen hauptsächlich zu befriedigen von hohem Reinheitsgrad, stabiles prozesskontrolliertes zur Verfügung zu stellen, hohe Genauigkeit und schnelle Antwort sicherzustellen, weitverbreitet und hohe Zuverlässigkeit und Sicherheitsauflagen zur Verfügung zu stellen. Diese Eigenschaften stellen Ultrahochreinheitsdruckregler ein unentbehrliches Schlüsselgerät im HalbleiterHerstellungsverfahren her. Heutiger Marktpreis des Ultra-hochreinheitsdruckreglers ist zu Hochs und Tiefs, der Qualität von gutem und von schlechtem und dem Bedarf an diesem Produkt, etwas Sorgfalt über den Preis, etwas Sorgfalt über die Qualität sehr unterschiedlich, aber die meisten des Interesses ist noch Qualität und Preis. Unsere Marke ist AFKLOK eigene Fabrik, das Produkt tat auch viel Prüfung erhielt schließlich gute Ergebnisse, so im Preis sowie in der Qualität, die wir einen Vorteil haben, wir kann die anderen Marken, die Zukunft ersetzen wir auch besser und besser erhalten.

Unterschied zwischen Hoch und Niederflussrate von Gasreglern des hohen Reinheitsgrades: Hohe Flussregler sind gewöhnlich entworfen, um höhere GasStrömungsgeschwindigkeiten, normalerweise in den Litern pro Minute (l/min) oder Kubikmeter pro Stunde (m-³ /h) zu behandeln. Demgegenüber sind Niederflussregler für untere Gasflussstrecken, normalerweise in den Millilitern pro Minute (mL/min) oder Liter pro Stunde (l/h) passend. Entwurf von Druckreglerventilen für Ultrahochreinheitsgase: Ventil-Entwurf: Hohe Flussregler benutzen gewöhnlich größere Ventile und Durchgänge, um größere Gasflüsse zu behandeln. Diese Ventile erfordern möglicherweise größere Kolben, Membranen oder andere flüssige Regler, genaue Regelung des Flusses zu erzielen. Niederflussregler benutzen andererseits kleinere Ventile und Durchgänge, um niedrigere Flussanforderungen unterzubringen.   Druckstrecke der Ultrahochreinheitsgasdruckregler: Hohe Flussregler haben gewöhnlich eine breitere Druckstrecke und können höheren Eingangsdruck behandeln und zum Ausgangsdruck zurücktreten. Niederflussregler eine verhältnismäßig schmale Druckstrecke für Eingangsdruck haben und erzielen möglicherweise eine kleinere Ausgangsdruckstrecke.   Außenmaße von Ultrahoch-Reinheits-Gas-Druckreglern: Weil hohe Flussregler angefordert werden, um größere Gasflüsse zu behandeln, haben sie gewöhnlich größere Außenmaße und die schwereren Gewichte, zum der größeren Strömungslehre unterzubringen. Demgegenüber können kleine Flussregler für die Raum-begrenzten oder beweglichen Anwendungen kompakter und leicht sein.   Bereiche der Anwendung für Ultra-hochreinheitsgasdruckregler: Hohe Flussregler sind in den Anwendungen allgemein verwendet, die eine hohe Strömungsgeschwindigkeit der Gasversorgung, wie industrielle prozesskontrollierte und große Laborausstattung erfordern. Niederflussregler werden in den Anwendungen benutzt, die niedrigere Strömungsgeschwindigkeiten und genauere Steuerung, wie Laboranalysatoren, wissenschaftliche Forschung, etc. erfordern.   Prinzip der Operation der Ultrahoch-Reinheits-Gas-Druckregler: Gasentspanner des hohen Reinheitsgrades verwenden gewöhnlich ein justierbares Ventil und einen Druck-Sensor. Wenn Hochdruckgas den Entspanner kommt, justiert das Ventil automatisch den Schalter, um den Druck auf dem gewünschten Ausgangsdruck zu verringern, der auf dem gesetzten Druckwert basiert.   Gesamt-, hoher Reinheitsgradgasentspanner sind in der Halbleiterherstellung, in der Optoelektronik, in der photo-voltaischen Industrie, in der Nanotechnologie, in der Laborforschung und in anderen Bereichen weitverbreitet, in denen Gase des hohen Reinheitsgrades angefordert werden. Sie werden benutzt, um Gasdruck zu steuern und zu fließen, um spezifischen Prozess und experimentelle Bedingungen zu erfüllen.

Binden Sie Gasbehandlungsausrüstung kann die Gase behandeln an, die in den Ätzverfahren und in den chemischen Bedampfenprozessen im Halbleiter, im Flüssigkristall und in den Solarenergieindustrien, einschließlich SiH4, SiH2Cl2, PH3, B2H6, TEOS, H2, Co, NF3, SF6, C2F6, WF6, NH3, N2O, und so weiter benutzt werden. Abgas-Behandlungsmethode Entsprechend den Eigenschaften der Abgasbehandlung, kann die Behandlung in vier Behandlungsarten unterteilt werden: 1. Waschende Art des Wassers (Behandlung von Schadgasen) 2. Oxydierungsart (beschäftigend die brennbaren und giftigen Gase) 3. Aufnahme (entsprechend der Art des Aufnahmematerials, zum den entsprechenden Abgas zu beschäftigen). Art der Verbrennung 4.Plasma (alle Arten Abgase können behandelt werden). Jede Behandlungsart hat seine eigenen Vorteile und Nachteile sowie sein Anwendungsbereich. Wenn die Behandlungsmethode Wasserreinigung ist, ist die Ausrüstung billig und einfach und kann wasserlösliche Gase nur behandeln; der Einsatzbereich der waschenden Art des elektrischen Wassers ist höher als der der Wasserreinigungsart, aber die Operationskosten sind hoch; die trockene Art hat gute Behandlungs-Leistungsfähigkeit, und ist nicht auf den Gasfluß anwendbar, der einfach ist verstopft zu werden oder geflossen zu werden. Die Chemikalien und ihre Nebenerscheinungen, die in der Halbleiterindustrie allgemein verwendet sind, können entsprechend ihren chemischen Eigenschaften und ihren verschiedenen Strecken kategorisiert werden: 1. Brennbare Gase wie SiH4H2, etc. 2. Giftige Gase wie AsH3, PH3, etc. 3. Schadgase wie HF, HCl, etc. 4. Treibhausgase wie CF4, NF3, etc. Seit den oben genannten vier Gasen seien Sie zur Umwelt oder zum menschlichen Körper, muss seine direkte Emission in die Atmosphäre verhindern schädlich, also sind die allgemeine Halbleiteranlage mit einem großen zentralisierten Abgas-Behandlungssystem installiert, aber dieses System ist nur Schrubbenauspuff des Wassers, also ist seine Anwendung auf die wasserlöslichen Langstreckengase begrenzt und kann nicht die ständig wechselnde und subtile Abteilung des Halbleiterprozess-Abgases beschäftigen. Deshalb ist es notwendig, die entsprechende Abgas-Behandlungsausrüstung entsprechend den Gaseigenschaften vorzuwählen und zusammenzubringen, die von jedem Prozess abgeleitet werden, um das Abgasproblem auf eine kleine Art zu lösen. Während der Arbeitsbereich größtenteils weg von dem zentralen Abgas-Behandlungssystem ist, häufig passend, Eigenschaften zu, Kristallisation zu führen oder Staubbelastung zu gasen die in Vorbereitung, mit dem Ergebnis der Verstopfung der Rohrleitung, die zum Gasdurchsickern und in den ernsten Fällen, eine führt Explosion sogar zu verursachen, kann nicht garantieren dass die des Standortarbeitssicherheit Personals. Deshalb im Arbeitsbereichsbedarf, eine kleine Abgas-Behandlungsausrüstung zu konfigurieren passend für die Eigenschaften des Prozessgases, um den stagnierenden Abgas im Arbeitsbereich zu verringern, um die Sicherheit des Personals sicherzustellen.

Es gibt eine große Vielfalt von den Gasen, die innerhalb eines pharmazeutischen oder medizinischen Labors gefunden werden. Viele haben keinen Geschmack, Farbe oder Geruch, die es schwierig, zu sagen macht, wenn ein Gasleck anwesend ist. Ein Gasleck von einem Zylinder oder örtlich festgelegten von einem Rohrgassystem wirft ein Reihenrisiko auf, das einen möglicherweise tödlichen Vorfall oder eine Gefahr innerhalb einer Laborumwelt verursachen kann.   Die Pharmaindustrie ist eine der am schnellsten wachsenden Industrien der Welt. Die meisten des Verkaufserlös, das es erzeugt, wird dann im Bereich der Forschung und Entwicklung der neuen Produkte wieder angelegt. Forschung und Entwicklung benutzt eine breite Palette von Spezialitätsgasen und -ausrüstung. Analytische Instrumente wie Gaschromatographen, flüssige Chromatographen und Spektrometer alle beruhen auf dem passenden Niveau der Gaslieferung, um effektiv zu funktionieren.   Diese pharmazeutischen und medizinischen Gase werden speziell für die medizinische, pharmazeutische Herstellung und die Biotechnologieindustrien hergestellt. Sie sind häufig gewohnt zu synthetisieren, zu entkeimen, oder isolieren Sie Prozesse oder Produkte, die zur menschlichen Gesundheit beitragen.   Pharmazeutische Gase werden auch von den Patienten in einer Technik inhaliert, die als Gastherapie bekannt ist. Die Gase, die für menschliches Gesundheitswesen benutzt werden, werden ausschließlich durch Gesetzgebung und Industriestandards gesteuert, um Physiologie des Menschen nicht zu hindern.   Gase fanden innerhalb eines Labors Helium Helium (er) ist ein sehr helles, geruchloses und geschmackloses Gas. Es ist auch eins der 6 Edelgase (Helium, Neon, Argon, Krypton, Xenon und Radon), so genannt, weil sie nicht mit anderen Elementen reagieren und nicht mit anderen Atomen deshalb verpfänden können, um komplexe Mittel zu bilden. Dieses gibt ihm ein starkes Sicherheitsprofil und eine mögliche Verwendung in den mehrfachen Anwendungen. Wegen ihres unreactive Status Heliums ist als Trägergas in den Labors häufig benutzt. Helium hat viel Gebrauch über dem seinem meisten allgemeinen hinaus, Ballone zu füllen und seine Rolle innerhalb des pharmazeutischen und Biotechnologiesektors ist unschätzbar. Sie ist im Labor im Abkühlen von Magneten innerhalb der Funktionen Maschinen jedoch, das es auch über einer großen Strecke der medizinischen Bereiche einschließlich Atmungs verwendet wird, Kardiologie, Radiologie und cryology MRI am weitverbreitetsten.   Argon Argon (AR) ist auch ein Edelgas mit phasenfreien Eigenschaften. Zusätzlich zu seinem weithin bekannten Gebrauch in den Neonlichtern wird es auch manchmal in den medizinischen und Biotechnologiesektoren verwendet. Es ist das bevorzugte Edelgas für Gebrauch innerhalb Schlenk-Linien und Handschuhschachteln, in den Fällen wo Stickstoff möglicherweise reagiert mit Reagenzien oder Apparat und Gebrauch auch sein kann, ist das Trägergas in der Gaschromatographie und in der electrospray Massenspektrometrie. In den pharmazeutischen Produkten und in der Medizin kann es im Verpacken, wo Stickstoff möglicherweise und auch widerspricht, im cryosurgery und in den Lasern auch verwendet werden, die für schweißende und Korrekturaugengefäßdefekte benutzt werden.   Stickstoff Obgleich kein Edelgas wie Helium-oder Argon-Stickstoff (N) auch in der Pharmaindustrie allgemein verwendet ist, die zu passend ist, ist verhältnismäßig nicht- reagierende Eigenschaften in vielen verschiedenen Prozessen und in Anwendungen. Labors hauptsächlich, zum der Atmosphäre für sehr empfindliche Ausrüstung und Verfahren zu steuern. Stickstoffgas wird aufgetragen, um Sauerstoffniveaus, -feuchtigkeit und -temperatur in der Laborausrüstung einschließlich Zellbrutkasten, Trockenschränke, Handschuhschachteln und Massenspektrometer zu steuern.